Ви є тут

Цикл наукових праць "Гранична роздільна здатність квадрупольних систем формування субмікронних іонних зондів для мікроаналізу та продукування наноструктур"


Номер роботи - M 89 ДОПУЩЕНА ДО УЧАСТІ

Автори:

 


Цикл научных работ "Предельная разрешающая способность квадрупольных систем формирования субмикронных ионных зондов для микроанализа и продуцирования наноструктур"


Автор:Мельник К.И.


 


А series of the works "Limit spatial resolution of quadrupole systems for forming of submicron ion probes for purposes of microanalysis and nanostuctures production"


Author: MelnikK.I.


 

Автор:Мельник К.І., к.ф.-м.н.

 

Представлений Інститутом  прикладної фізики НАН України.

 

Авторамипроведено дослідження актуальної проблеми створення зондоформуючих систем, які б стабільно забезпечували субмікронне розділення, потрібне для мікроаналізу та створення наностуктур.

Завдяки розв’язанню багатопараметричної оптимізаційної задачі визначено граничну роздільну здатність зондоформуючих систем, побудованих за сучасними оптичними схемами. Вперше показано як впливає на роздільну здатність збільшення кількості лінз у класичномумуль­типлет.

Розвинуто  модель динаміки мікропучка в системах квадрупольних лінз, що дозволяє враховувати всі без виключення аберації до третього порядку включно. Розроблено метод кількісного урахування технологічних обмежень на точність виготовлення лінз, мінімізації негативного впливу на якість зонду.

Розглянуто кілька можливостей модернізації систем зондоформування за рахунок використання оптичних схем, відмінних від класичних. Така модернізація на практиці має привести до покращення роздільної здатності іонних зондів до 4-5 разів. Для майбутніх короткофокусних систем розроблено і запатентовано магнітну квадрупольну лінзу із магнітопроводом спеціальної форми.

Методи і результати досліджень використано при проектуванні ядерних мікрозондів в ІПФ НАН України та РФЯЦ ВНДІЕФ, установки протонної літографії з субмікронною роздільною здатністю.

Результати циклу мають значення для подальшого розвитку технології створення наностуктур методом прямого протонно-пучкового експонування без застосування масок, що має всі шанси стати методом, конкурентним сучасній оптичній літографії у задачах мікроелектроніки.

 

Кількість публікацій:22,в т.ч. за темою роботи 9 статей, 4 тези доповідей, сумарна кількість посилань 20 (згідно бази даних SCOPUS), отримано 1 патент