Ви є тут

Фізичні засади формування низькорозмірних систем із урахуванням взаємодії частинок та створення інноваційного вакуумно-технологічного обладнання з плазмовими потоками надвисокої густини


Номер роботи - P 8 ПОДАНА

Представлено Національним технічним університетом України "Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського".

Автори:
1. ВОЙТЕНКО Олександр Іванович – доктор фізико-математичних наук, провідний науковий співробітник Інституту фізики НАН України;
2. ГАБОВИЧ Олександр Маркович – доктор фізико-математичних наук, провідний науковий співробітник Інституту фізики НАН України;
3. ГОРШКОВ В’ячеслав Миколайович – доктор фізико-математичних наук, професор КПІ ім. Ігоря Сікорського;
4. КОРОТАШ Ігор Васильович – кандидат фізико-математичних наук, старший науковий співробітник Інституту металофізики НАН України;
5. КУЗЬМИЧЄВ Анатолій Іванович – доктор технічних наук, професор КПІ ім. Ігоря Сікорського;
6. РУДЕНКО Едуард Михайлович – доктор фізико-математичних наук, завідувач відділу Інституту металофізики НАН України;
7. СЕМЕНЮК Валерій Федорович – кандидат фізико-математичних наук, директор ТОВ "ГРЕСЕМ ІНОВЕЙШН";
8. СЕМЕНЮК Надія Іванівна – провідний науковий співробітник ТОВ "ГРЕСЕМ ІНОВЕЙШН".

Робота є підсумком багаторічної праці виконавців у царині фізики плазми, конденсованих середовищ та взаємодії між іонними потоками, породженими плазмовими середовищем, і металічними, напівпровідниковими та діелектричним мішенями.

Авторами досліджено як елементарні електронні та атомно-молекулярні процеси, так і колективні явища притаманні системам із багатьох складових. Створено і інтенсивно використовуються установки, які здатні розпилювати мішені, виготовлені з металів, напівпровідників, діелектриків і полімерів, внаслідок взаємодії з їх поверхнею іонних потоків надвисокої густини (ефективними плазмовими джерелами іонів є магнетронний або геліконний розряди). Завдяки цьому отримано зразки плівок з поліпшеними характеристиками. Відкрито новий колективний ("батутний" ) пороговий механізм розпилення мішеней.

 Теоретично досліджено кінетику елементарних процесів кристалізації, утворенння нанокластерів та наностовпчиків. За допомогою теоретичного "мікроскопу" розглянуто покрокові процеси, які формують поверхню в процесах розпилення та кристалізації. Створено теорію, яка   описує кулонівську взаємодію в двох- або тришарових системах, а саме взаємодію частинок з поверхнею або поверхнями (дзеркальні сили) залежить від екрануючих властивостей середовищ, куди вони занурені. Це, важливо для аналізу властивостей екситонів у шаруватих структурах, у тому числі, в плівках, напилених експериментальними методами, застосованими в даній роботі.

 Всі опубліковані результати відповідають світовому рівню і є новими, важливими та апробованими на практиці.

Кількість публікацій: 103, у тому числі 3 монографії, 7 розділів у колективних монографіях, 83 статті (48 у англомовних журналах зі значним імпакт-фактором). Загальна кількість посилань на публікації авторів/h-індекс роботи, згідно з базами даних складає відповідно: Web of Science – 431/11, Scopus – 438/10, Google Scholar – 693/13. Отримано 9 патентів України на винаходи, 3 міжнародних патентів. За даною тематикою захищено 2 докторські та 7 кандидатських дисертацій.

Коментарі