Вы здесь

Лазерный отжиг нестехиометричного пленок SiOx


Номер работы - M 19 НАГРАЖДЕНА

Представлен Институтом химии поверхности им. А.А. Чуйко НАН Украины

 

Авторы:  Гаврилюк А.А., Пилипова О.В.

 Целью данного исследования было решение научной проблемы, которая заключается  в создании физико-технологических основ лазер-индуцированного отжига нестехиометрических пленок SiOx.

Авторами получено численное решение уравнения Фурье и предложены подходы для его использования при моделировании лазерного отжига нестехиометрических пленок SiOx. Исследовано распространение температурных профилей в данной структуре при лазерном отжиге различной интенсивности, что дает возможность для прогнозирования образования наночастиц в объеме, рост которых сильно зависит от температуры.

 Выяснено природу изменений, которые произошли в пленках SiO2 (Si), после отжига лазером.

С целью обоснования возможности применения данных структур после лазерного отжига в микроэлектронике, экспериментально исследованы их электрические характеристики.

Были сравнены электрические характеристики данных пленок после термического и лазерного отжигов.

Количество публикаций :56, в т.ч. по тематики роботы 1 монография, 18 статей (7– в зарубежных журналах), 18 тезисы докладов.  Общее количество ссылок на публикации авторов составляет 14 (согласно базы данных Scopus ), 34 (согласно базы данных Google Shcolar) h-индекс цитирования составляет  2 (согласно базы данных Scopus );  4 (согласно базы данных Google Shcolar).

n/a

n/a

n/a